1.принцип чишћења
Са ласерском енергијом која продире у површину објекта, око 100 фемтосекунди електрони у материјалу апсорбују енергију и вибрирају, стварајући плазму на површини материјала; 7-10 пикосекунди касније енергија електрона се преноси на решетку тако да решетка почиње да вибрира, након 10 пикосекунди објекат почиње да производи макро температуру, локални материјал озрачен ласером почиње да се загрева, топи и испарава , чиме се постиже сврха чишћења.
2.процес и резултати чишћења
Процес ласерског чишћења је изузетно једноставан у поређењу са методом кисељења, није потребна претходна обрада и радови на чишћењу се могу обављати истовремено како би се уклонили уље, оксид и рђа. Једноставно укључите машину да производи светло, а затим извршите чишћење.
Ласерско чишћење може достићи највиши ниво индустријског чишћења од Са3; готово да нема оштећења тврдоће и хидрофобности површине материјала.Темељније од чишћења киселином.
Можемо све, било каква питања, молимКонтактирајте нас.
