Хуавеи покреће ударне таласе индустрије, производњу ласера ​​како би помогао развоју чипова

Хуавеи је 29. августа бацио тешку бомбу – Хуавеи МАТЕ 60 про, мање од сат времена након што је распродаја распродата. Разлог зашто је овај нови модел у продаји изазвао шокове у индустрији, углавном зато што је кинески високопроцесни чип на западном врату директно дозволио Хуавеи перформансе да „шокирају“, а ова акција може значити да је Хуавеи решио проблем. Говорећи о високопроцесним чиповима, као што је морао да се појави протагониста ЕУВ литографије. ЕУВ литографија Холандије Асмаи је тренутно најнапреднија, која може да производи 5нм хигх-енд чипове, док кинеска потпуно независна литографија само уздише 90нм процес, разлика може бити више од пола звездице. Једна од основне опреме ЕУВ литографије је ласер, а немачка Трафигура је једини добављач ове кључне компоненте за Асмац. Зашто је ласер толико важан? Зато што ЕУВ литографија користи екстремно ултраљубичасто светло са таласном дужином од 10-14 нм као извор светлости. Овде треба да разумемо коју улогу ласер игра у целој ЕУВ литографској машини.
У почетној фази улоге ЕУВ литографије, први генератор ће учинити да лим пада у вакуумску комору, у овом тренутку из брзог пулсног ласера ​​велике снаге ће произвести више од 30кВ просечне импулсне снаге ласерског зрака, врхунац импулсна снага може да достигне и неколико мегавата, тако да удари са стране капи лимене капи, чак 50,000 пута у секунди. Атоми калаја су јонизовани, стварајући плазму високог интензитета која емитује ЕУВ зрачење на таласној дужини од 13,5 нм у свим правцима. То је сама суштина ЕУВ литографије, њен „извор“. Процес у коме почетни извор светлости удара у лимену течност је заправо подељен у два корака, који укључују два кључна импулса, које називамо предпулс и главни импулс. Такозвани предпулс, као што име каже, први делује на течни лим, углавном да га обликује у жељени облик за следећи корак. А онда главни импулс делује директно на њега, који га претвара у плазму. Ово је изузетно захтевно за сноп који ослобађа ласер, који мора да има исправне оптичке карактеристике да би се обезбедило да се лимена течност може правилно третирати како би се произвела плазма, а самим тим и ЕУВ зрачење. Дакле, да ли ће ласери веће снаге имати више побољшања за генерисање ЕУВ зрачења, или ласери веће снаге могу изоставити друге технологије и учинити опште техничке захтеве будуће литографије сажетијима? У ствари, рани кинески научници су били повезани са студијом.
Године 2021, истраживачка група професора инжењерске физике Универзитета Тсингхуа Танг Цхуанкианга и немачки истраживачки тим завршили су нови извор светлости на педалу гаса честица под називом „микро-зрака у стабилном стању“ (ССМБ) да би потврдили принцип експеримента. Пријављено је да је главна употреба ласерске таласне дужине од 1064 нанометра за манипулацију снопа електрона у берлинском МЛС прстену за складиштење, тако да се око прстена пуни круг (обим од 48 метара), тако да се формира фини микро-полимер греда. Зракови микрокластера зраче кохерентну светлост високог интензитета уског пропусног опсега на таласној дужини ласера ​​и његовим вишим хармоницима, а експерименти су потврдили формирање снопова микрокластера испитивањем зрачења, показујући на тај начин да се оптичке фазе електрона могу корелисати кружно- би-круг са прецизношћу краћом од таласне дужине ласера, што омогућава да електрони буду стабилно заробљени у оптичким потенцијалним бунарима које формира ласер, и на тај начин се верификује механизам рада ССМБ. Ово такође имплицира да се очекује да будући ЕУВ извори светлости засновани на ССМБ-у постижу већу просечну снагу и потенцијално краће таласне дужине, што ће имати велики утицај на надоградњу и проширење примене ЕУВ литографије у будућности.
Развој ЕУВ литографије треба истражити и акумулирати, и само би требало да буде питање времена када ће нове технологије побољшати процес чипова ЕУВ литографије, смањити њену потрошњу енергије и пробити њене границе. Можда будућност није итерација ЕУВ литографије, већ рођење нових технологија које ће је заменити. Снага ласера ​​је бескрајна и верујем да постоји много више могућности које чекају да буду откривене.