Недавно је Одсек за технологију и инжењеринг ласерских компоненти велике снаге Шангајског института за оптику и прецизне машине Кинеске академије наука (СИПМ, ЦАС) направио нови напредак у истраживању индексног система оптичких компоненти импулсне компресионе решетке. двосмерни статички интерферометријски холографски систем експозиције и процес контроле хомогености светлосног поља експозиције. Истраживањем је по први пут успостављен квантитативни систем процене уједначености оптичког поља експозиције рефлексије и успешно реализована верификација примене у систему експозиције рефлексије малог пречника. Резултати истраживања сумирани су као „Спецификације и контрола грешака просторне фреквенције компоненти у двосмерној ласерској статичкој холографској експозицији за пулсно компресиону решеткасту тканину“. Сродни резултати истраживања објављени су у Хигх Повер Ласер Сциенце анд Енгинееринг под насловом „Спецификације и контрола грешака просторне фреквенције компоненти у статичној холографској експозицији ласера са два зрака за израду пулсне компресијске решетке“.
Појава и брзи развој ласера ултра-високог интензитета, ултра-кратких импулса, обезбедили су невиђене екстремне физичке услове и нова експериментална средства за људска бића, и постали најновија граница међународне ласерске науке и технологије и фокус конкуренције. Импулсна компресиона решетка је основна компонента ултра високог интензитета и ултракратког ласерског уређаја, а отвор решетке одређује горњу границу излазне снаге ласера. Домаћи и страни развој експозиције скенирања финог снопа, изложености пољу преноса статичких сметњи, спајања експозиције и механичког сцрибинга и других метода, немају могућности припреме решетке двосмерне мерне скале.
Шангајски институт за оптичку машину (СИОМ) је предложио иновативну шему за производњу импулсних компресионих решетки у метарској скали користећи систем рефлективне експозиције ван осе великог калибра. Срж програма је употреба високо прецизних параболичких огледала ван осе за формирање два паралелна снопа светлости да би се конструисао широк опсег једноликог светлосног поља експозиције, а униформност светлосног поља је углавном одређена параболичним огледалом ван осе површинска грешка, посебно у високофреквентној грешци. Због недостатка квантитативног система процене грешака у производњи на униформности светлосног поља и повезаног процеса обраде високе прецизности са доследном конвергенцијом грешака у фреквентном опсегу, још увек не постоји успешан преседан.
На основу теорије дифракције слободног светлосног поља, тим је успоставио модел мапирања између грешке фреквентног опсега на површини параболичних огледала ван осе изложених рефлексији и хомогености светлосног поља изложености, успоставио је квантитативни систем индекса за фреквенцију грешка опсега облика површине огледала, а затим изнео иновативну технологију обраде за једногласну конвергенцију грешке опсега пуне фреквенције огледала за експозицију. Према систему процене индекса који је одређен моделом, грешке средње и високе фреквенције огледала експозиције треба да буду боље од 0.65 нм и 0.5 нм, респективно, и стога, систем рефлективне експозиције ван осе од Φ300 мм је произведен усвајањем горе наведене технологије обраде. У овом систему, РМС огледала је потиснут на 0.586 нм и 0,462 нм, а периодична грешка и грешка регуларне траке су потпуно елиминисане. Коначно, дифракциона решетка са вишеслојним диелектричним филмом (МЛД) величине 200 мм×150 мм успешно је произведена коришћењем овог система експозиције, са просечном ефикасношћу дифракције од 98,1% на нивоу -1 и бољим дифракционим таласним фронтом. од 0,3 таласне дужине.
Ово истраживање за производњу дифракцијске решетке великог отвора пружа нови начин, за каснији развој ласерског уређаја велике снаге од 100 пат-ватт-а потребног за компресијску компресиону пулсну решетку метра, поставило је техничку основу.
Сродни рад подржан је од стране Програма кључних истраживања и развоја Министарства науке и технологије, Фонда за младе Националне фондације за природне науке Кине, Програма младих научних и технолошких талената Шангајске општинске комисије за науку и технологију и Програма за једрење младих научних и технолошких талената у Шангају. Посебни фондови за развој стратешких индустрија у настајању, између осталих фондова.
Слика 1 Резултати грешке пуне фреквенције система експозиције параболичног огледала ван осе Φ300 мм: (а) Нискофреквентна грешка облика лица огледала ван осе мерена коришћењем 4-инчног Зиго интерферометра. (б) Слике грешке средње фреквенције и дистрибуције светлосног поља добијене након филтрирања према моделу; (ц) Грешка високе фреквенције добијена коришћењем Зиго профилера беле светлости са 20к сочивом и фотографијом маске решетке мереном микроскопом. (д) 1Д крива спектралне густине снаге.
Слика 2 Дифракциони таласни фронт и расподела ефикасности МЛД решетке 200мм×150мм: (а) -1 ниво дифракције таласног фронта. (б) 0-ниво дифракције таласног фронта. (ц) +1-ниво дифракције таласног фронта. (д) Ефикасност дифракције МЛД решетке на 1740 л/мм, са уједначеном ефикасношћу дифракције унутар ефективног отвора на 1053 нм (Аве=98.1%, σ=0.3%, Мак {{ 12}}.6%). (е) Физичка слика МЛД решетке коришћењем методе експозиције рефлексије.
