Танкофилни ласери са својим одличним квалитетом зрака и високом ефикасношћу оптичке конверзије се све више користе у областима као што су индустријска производња и основна научна истраживања. Посебно се показало да је ултрабрза ласерска технологија танког пресека најбоље решење за остваривање велике енергије импулса, ултра-кратке ширине импулса и велике просечне снаге, која је позната и као „крунски драгуљ“ ласерске индустрије и од велике је важности. значај за врхунску производњу, генерисање екстремног ултраљубичастог светла и атосекундну науку.
Немачки Трафотек већ дуже време искључиво води истраживање и производњу танкослојних ласера и постиже велики комерцијални успех. У протекле 4 године, уз подршку Националног кључног програма за истраживање и развој „Нови екрани и стратешки електронски материјали“ који води проф. Руан Схуангцхен са Технолошког универзитета Шенжен, пројектни тим је радио заједно са Шангајским институтом за истраживање ласерске плазме из Кинеска академија за инжењерску физику, Јиангсу Нормал Университи, Даки Ласер, Институт за истраживање полупроводника Кинеске академије наука, Јиангсу Тхирд Генератион Семицондуцтор Ресеарцх Институте и друге јединице за обављање техничких истраживања и производњу танкослојних ласера. Институт за истраживање полупроводника треће генерације и друге јединице за обављање техничких истраживања, превазилажење прецизне обраде танкослојних кристала, дизајн и паковање система кристалног хладњака, 48-систем пумпања, регенеративна резонантна шупљина високе стабилности и вишеструко -канално појачање и друге кључне технологије језгра, прва у Кини која је постигла пречник > 20 мм Иб: ИАГ танкослојна кристална амбалажа, развој 48-система за пумпање киловата класе.
У фебруару 2024, група је остварила велики напредак у киловат-класи ултрабрзих ласера са танким пахуљицама у Кини: излазна импулсна максимална просечна снага од 1,075кВ, ширина импулса од 7пс, фреквенција понављања од 500-800кХз подесива, максимална енергија импулса од 2,1мЈ, квалитет снопа М2<1.5, spot ellipticity of 0.96, for the China's attosecond light source, extreme UV lithography, new energy vehicles, 3C electronics and chip processing, aerospace and other high-end manufacturing industries, to provide advanced laser light source.
